一觉醒来，三件大事发生，中国半导体再次迎来突破！

第一、清华大学发布了一项有关EUV光源的重大科研成果，这意味着极紫外光刻机核心基础之一快被我们攻克了，这对研究光刻机来说意义重大！

第二、中国电科旗下装备子集团攻克系列“卡脖子”技术，目前已成功实现28nm以上的离子注入全谱系产品国产化，芯片制造关键设备再突破！

第三、中芯Finfet技术已经成功量产，第二代技术也正在风险量产之中，Finfet第二代技术是指N+1及N+2制程工艺，对标的就是台积电的7nm技术，如今风险试产的正是7nm，毕竟7nm是可以脱离EUV光刻机进行多次曝光就可以生产制造出来的，而这一点台积电早就已经做了先例，一旦中芯国际突破了7nm工艺，就意味着中芯国际是继台积电以及三星之后第三家掌握这项技术的芯片代工企业，这些正是越来越多的中国企业正在觉醒的真实写照！

今天，我们不能怪台积电不厚道，只怪我们把别人想的太好，包括三星的出手、产业链的撤离，我们承认这是一场危机，但这也是中国推动自主研发、国产崛起、自信回流的绝佳机遇！

所以说西方国家的封锁是害怕被超越！无数事实证明，他们封锁，我们就努力创造！并且还能站在高端！不过是晚几年的事！数码科技评论