突破光刻机的三个阶段摘自标哥看光刻机...

发布时间 :2023-09-16 07:47:04
突破光刻机的三个阶段

摘自标哥看光刻机 芯科技风向标

第一阶段(2023):国产duv实现,28nm全国产化,实现手机和ai外的全部自主。

第二阶段(2025/7):用国产duv实现n+1/2,实现非高端手机和ai外的自主

第三阶段(2027/2030):实现euv(先实验室,再量产)

duv的壁垒已经突破,

euv作为西方科技工业文明最后的碉堡,

一旦突破,将重塑世界经济格局!

热门评论

hailong的地盘
hailong的地盘

华为mate60算不算高端

BJoe_Zhang
BJoe_Zhang

你觉得高端他就高端,就像LV你觉得高端嘛?不就是牛皮做的包[doge]

陈宏彦68
陈宏彦68

大胆推断EUV的突破25年就会到来

花落蜘蛛爬
花落蜘蛛爬

现在已经去美化的DUV全面突破了。[允悲]

花落蜘蛛爬
花落蜘蛛爬

DUV有四种。突破到侵润式光刻机了。深紫外线和极紫外线光源现在需要突破啊!

rainee瓜瓜
rainee瓜瓜

回复 花落蜘蛛爬:你理解错了 duv就是深紫外,其中包括干式和湿式。下一步就是极紫外了。你所说的4种应该是指光刻机。

Eric_Li168
Eric_Li168

华为带领突破半导体产业链封锁(设计、工艺、设备、材料、封测统统突破)[拳头][拳头]

我心wild
我心wild

28nm会是主流

龍殿微博
龍殿微博

真保守保守的有点股份,造芯片有不是只有EUV一条路

海不扬波1969
海不扬波1969

汉阳造[笑cry]能够管用就行

追逐_85765
追逐_85765

呵呵 28纳米21年就上线调试了 要不你们真的以为今年23年的麒麟5G怎么量产的 还有前些天有消息国产EUV光刻机上线调试还等你2030年 明年就可以量产了

Zionsville
Zionsville

我觉得第三阶段有点难,EUV光刻机不止有一代产品,初代EUV光刻机可以制造3-5nm制程芯片,二代EUV光刻机将可以生产1nm制程芯片,这意味着中国在10年内只能量产主流的光刻机。

天体地质人心
天体地质人心

第一阶段开始了,南昌起义。这个问题在Mate60出来我就判断了

Physlife
Physlife

配图是回旋加速器?

萃思投资
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